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Impianto di deposizione cigs

L'impianto  CIGS proposto da Voltasolar è basato su una tecnologia di deposizione innovativa,  Brevetto Europeo "Equipment and process for the production of semiconductor film", ed è stata specificatamente progettato per substrati flessibili in acciaio o Polyimide.

Le tecniche note di produzione dei suddetti film non sono risultate completamente soddisfacenti per quanto concerne i tassi di produttività e di sfruttamento delle materie prime, così da incidere negativamente sulla loro effettiva applicabilità in processi su scala industriale.
Uno scopo della presente invenzione è quello di ovviare agli inconvenienti delle attuali tecnologie di deposizione, mediante un processo ibrido  di Sputtering ed evaporazione (ISDD  "INDIRECT SPUTTERING DEPOSITION DEVICE)" garantendo una deposizione controllabile nella composizione ed omogeneità spaziale.
Il sistema ISDD consente di sostituire le celle evaporative di grosse dimensioni necessarie su un impianto di produzione con dispositivi magnetron mantenedo le condizioni di processo simili alle condizioni di deposizione con celle evaporative,  con una maggior semplicità di controllo e  flessibilità di utiizzo.


Vantaggi della soluzione:

  • Minor costo di investimento a pari capacità produttiva;
  • Minor costo di produzione del substrato;
  • Maggior efficienza produttiva;
  • Deposione dei metalli controllata mediante lo sputtering;
  • Flusso di deposizione altamente uniforme;
  • Utilizzo di Se metallico senza ricorrere a gas tossici come H2Se;
  • Possibilità di lavoro con alte pressioni parziali di Se, nelle zone prossime al substrato.

Scheda tecnica


Sono disponibili impianti di deposizione CIGS su substrato flessibile con capacità produttive da 1 a 10 MW/anno.



Contatti

 

Voltasolar srl, C.F./P.IVA 03073850137 - mail: info@voltasolar.it
Tel: +39 02 96751318 Fax: +39 02 96751454